کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5423122 1507937 2011 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Evidence for the interfacial reaction between Ni adatoms and H-Si(001) surface
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Evidence for the interfacial reaction between Ni adatoms and H-Si(001) surface
چکیده انگلیسی
► Hydrogen termination does not suppress the interfacial reaction between Ni and Si. ► Below 33% Ni, a silicide-like layer forms and prevents Ni from oxidation in air. ► Ni grows in a pseudo-layer-by-layer mode on the H-Si surface. ► A metallic Ni/Ni-rich-silicide-like/NiSi-like structure grows eventually on H-Si.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 605, Issues 19–20, October 2011, Pages 1852-1860
نویسندگان
, , , , ,