کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5423122 | 1507937 | 2011 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Evidence for the interfacial reaction between Ni adatoms and H-Si(001) surface
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Hydrogen termination does not suppress the interfacial reaction between Ni and Si. ⺠Below 33% Ni, a silicide-like layer forms and prevents Ni from oxidation in air. ⺠Ni grows in a pseudo-layer-by-layer mode on the H-Si surface. ⺠A metallic Ni/Ni-rich-silicide-like/NiSi-like structure grows eventually on H-Si.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science - Volume 605, Issues 19â20, October 2011, Pages 1852-1860
Journal: Surface Science - Volume 605, Issues 19â20, October 2011, Pages 1852-1860
نویسندگان
Z. Zhang, J.S. Pan, J.W. Chai, J. Zhang, E.S. Tok,