کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
542314 | 1450488 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal properties and thermoelectric microdevices with InN thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We report the load characteristics of miniature thermoelectric power devices using InN thin films prepared by reactive radio-frequency (RF) sputtering. The devices are composed of 25-pair and 12-pair InN-chromel films on a SiO2 glass substrate. The open output voltage and the maximum output power were 0.11 V and 2.9×10-8W at ΔT=262K for the 25-pair device, respectively, and 0.05 V and 1.3×10-8W at ΔT=234K for the 12-pair device, respectively. The open output voltage and the maximum output power were proportional to (ΔT)n(ΔT)n (n=1n=1 and 2, respectively).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 6–7, June–July 2007, Pages 667–671
Journal: Microelectronics Journal - Volume 38, Issues 6–7, June–July 2007, Pages 667–671
نویسندگان
Ryohei Izaki, Masayuki Hoshino, Tadashi Yaginuma, Nakaba Kaiwa, Shigeo Yamaguchi, Atsushi Yamamoto,