کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5431562 | 1508824 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pulsed KrF laser-assisted direct deposition of graphitic capping layer for Cu interconnect
ترجمه فارسی عنوان
رسوب مستقیم لایه سر پوش گرافیتی به کمک لیزر KRF پالس دار برای اتصال متقابل مس
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
چکیده انگلیسی
A graphitic capping layer was successfully formed on top of Cu interconnects at room temperature, using a pulsed KrF laser. The change in temperature of the Cu line was maintained below 380 °C during laser irradiation with a fluence of 312.5 mJ/cm2. The resistance and critical current density of graphitic layer-capped Cu interconnects were improved by 2.8% and 5.2%, respectively. The lifetime of graphitic layer-capped Cu interconnects under a constant current stress was improved by 223%.
237
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Carbon - Volume 123, October 2017, Pages 307-310
Journal: Carbon - Volume 123, October 2017, Pages 307-310
نویسندگان
Chunhum Cho, Sang Kyung Lee, Tae Jin Yoo, Sunwoo Heo, Hyeon Jun Hwang, Chang Goo Kang, Moon-Ho Ham, Byoung Hun Lee,