کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5432296 | 1508832 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Molecular beam epitaxy growth of atomically ultrathin MoTe2 lateral heterophase homojunctions on graphene substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Van der Waals epitaxy growth of two-dimensional materials promise controllable fabrication of novel artificial heterostructures. Here, we report molecular beam epitaxy growth of continuous molybdenum ditelluride (MoTe2) films on graphene substrates with good stoichiometry in both 2H and 1Tâ² phases. Post-growth annealing reveal phase transition suppressed in Te-rich atmosphere, through in-situ scanning tunneling microscopy/spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. Our results suggest a new route to fabricate atomically ultrathin MoTe2 lateral heterophase homojunctions, showing potential applications in future lateral thin-film transistors.
410
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Carbon - Volume 115, May 2017, Pages 526-531
Journal: Carbon - Volume 115, May 2017, Pages 526-531
نویسندگان
Yayun Yu, Guang Wang, Shiqiao Qin, Nannan Wu, Zhenyu Wang, Ke He, Xue-Ao Zhang,