کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5440845 | 1398239 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical stability of silicon nitride coatings used in the crystallization of photovoltaic silicon ingots. Part I: Stability in vacuum
ترجمه فارسی عنوان
پایداری شیمیایی پوشش های نیترید سیلیکونی مورد استفاده در کریستالیزه شدن شمشهای سیلیکونی فتوولتائیک. قسمت اول: پایداری در خلاء
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
سیلیکون فتوولتائیک در حال حاضر در کلاسیک سیلیکا پوشش داده شده با پودر نیترید سیلیکون اکسید شده است که به عنوان یک عامل آزاد کننده بین سیلیکون و بوته عمل می کند. یک سری آزمایش ها برای بررسی واکنش بین اجزای پوشش در خلاء بالا، تغییر درجه حرارت، زمان نگهداری و مقدار اکسیژن در پوشش انجام شد. نتایج با استفاده از یک مدل تحلیلی ساده با در نظر گرفتن انتقال نفوذی از واکنش ها از داخل پوشش متخلخل به سطح آن و سپس تبخیر آنها در فاز بخار مورد بحث قرار می گیرد.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
Photovoltaic silicon is currently grown in silica crucibles coated with an oxidized silicon nitride powder, which acts as an interface releasing agent between the silicon and the crucible. A series of experiments was performed to study the reactions between coating components under high vacuum, varying the temperature, the holding time and the oxygen content in the coating. The results are discussed with the help of a simple analytical model taking into account the diffusive transport of reaction species from the inside of the porous coating to its surface and then their evaporation into the vapour phase.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of the European Ceramic Society - Volume 37, Issue 1, January 2017, Pages 69-74
Journal: Journal of the European Ceramic Society - Volume 37, Issue 1, January 2017, Pages 69-74
نویسندگان
A. Selzer, V. Brizé, R. Voytovych, B. Drevet, D. Camel, N. Eustathopoulos,