Chemical stability of silicon nitride coatings used in the crystallization of photovoltaic silicon ingots. Part I: Stability in vacuum

سیلیکون فتوولتائیک در حال حاضر در کلاسیک سیلیکا پوشش داده شده با پودر نیترید سیلیکون اکسید شده است که به عنوان یک عامل آزاد کننده بین سیلیکون و بوته عمل می کند. یک سری آزمایش ها برای بررسی واکنش بین اجزای پوشش در خلاء بالا، تغییر درجه حرارت، زمان نگهداری و مقدار اکسیژن در پوشش انجام شد. نتایج با استفاده از یک مدل تحلیلی ساده با در نظر گرفتن انتقال نفوذی از واکنش ها از داخل پوشش متخلخل به سطح آن و سپس تبخیر آنها در فاز بخار مورد بحث قرار می گیرد.