کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5459529 | 1516186 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of concentrations of chloride ions on electrochemical corrosion behavior of titanium-zirconium-molybdenum alloy
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر غلظت یون های کلرید بر رفتار خوردگی الکتروشیمیایی آلیاژ تیتانیوم-زیرکونیوم-مولیبدن
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
آلیاژ تیتانیوم-زیرکونیوم-مولیبدن، یون کلرید، خوردگی الکتروشیمیایی، منحنی قطبش،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
چکیده انگلیسی
Titanium-zirconium-molybdenum (TZM) alloy was fabricated by using powder metallurgy and rolling techniques. Electrochemical corrosion behavior of the alloy was studied quantitatively using potentiodynamic polarization and scanning electron microscope. Effect of different chloride ions concentrations on corrosion resistance and electrochemical corrosion mechanism on TZM alloy was investigated. Results show that pitting corrosion and intergranular corrosion of TZM alloy mainly occurs in sodium chloride solution. Corrosion generates firstly in the form of pitting corrosion around second phase particles and increases with corrosive media Clâ concentration increasing, and then the intergranular corrosion occurs along grain boundaries and defects. Clâ corrosion can effectively destroy the passive film formed on the sample surface. As the Clâ concentration of corrosive media increases, the corrosion rate of TZM alloy increases until 1.0Â mol/L and then decreases. TZM alloy exhibits good corrosion resistance when the concentration of Clâ in corrosive media is 0.5Â mol/L or 1.5Â mol/L.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 708, 25 June 2017, Pages 367-372
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 708, 25 June 2017, Pages 367-372
نویسندگان
Ping Hu, Rui Song, Xiao-jing Li, Jie Deng, Zhen-yu Chen, Qin-wei Li, Kuai-she Wang, Wei-cheng Cao, Dong-xin Liu, Hai-liang Yu,