کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5460707 | 1516172 | 2017 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of Y-stabilized ZrO2 for advanced DRAM capacitors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 722, 25 October 2017, Pages 307-312
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 722, 25 October 2017, Pages 307-312
نویسندگان
Bo-Eun Park, Il-Kwon Oh, Chandreswar Mahata, Chang Wan Lee, David Thompson, Han-Bo-Ram Lee, Wan Joo Maeng, Hyungjun Kim,