کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5465265 1517573 2017 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atmospheric pressure plasma etching of silicon dioxide using diffuse coplanar surface barrier discharge generated in pure hydrogen
ترجمه فارسی عنوان
فشار اتمسفری پاشش دی اکسید سیلیکون با استفاده از دیافراگم مخزن تولید شده در هیدروژن خالص
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش مقاله
فشار اتمسفری پاشش دی اکسید سیلیکون با استفاده از دیافراگم مخزن تولید شده در هیدروژن خالص
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 309, 15 January 2017, Pages 301-308
نویسندگان
, , , , ,