کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5467845 1518624 2017 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SIMS as a new methodology to depth profile helium in as-implanted and annealed pure bcc metals?
ترجمه فارسی عنوان
سیمز به عنوان یک روش جدید برای هلیوم عمق پروفایل در فلزات غیرمستقیم خالص و ماندگار
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
چکیده انگلیسی
This study confirmed the great potential of this experimental procedure as a He-depth profiling technique in bcc metals. Indeed, the methodology described in this work could be extended to other materials including metallic and non-metallic compounds. Nevertheless, the quantification of helium concentration after annealing treatment by SIMS remains uncertain probably due to the non-uniform ionization efficiency in samples containing large bubbles.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 398, 1 May 2017, Pages 56-64
نویسندگان
, , , ,