کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5467845 | 1518624 | 2017 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SIMS as a new methodology to depth profile helium in as-implanted and annealed pure bcc metals?
ترجمه فارسی عنوان
سیمز به عنوان یک روش جدید برای هلیوم عمق پروفایل در فلزات غیرمستقیم خالص و ماندگار
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
طیف سنجی جرمی ثانویه، کاشت هلیم، مشخصات عمق فلزات پراکنده، آنیلینگ حرارتی، میکروسکوپ الکترونی انتقال،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
This study confirmed the great potential of this experimental procedure as a He-depth profiling technique in bcc metals. Indeed, the methodology described in this work could be extended to other materials including metallic and non-metallic compounds. Nevertheless, the quantification of helium concentration after annealing treatment by SIMS remains uncertain probably due to the non-uniform ionization efficiency in samples containing large bubbles.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 398, 1 May 2017, Pages 56-64
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 398, 1 May 2017, Pages 56-64
نویسندگان
S. Gorondy-Novak, F. Jomard, F. Prima, H. Lefaix-Jeuland,