کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6663221 463249 2013 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Refinement of electrodeposition mechanism for fabrication of thin nickel films on n-type silicon (1 1 1)
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Refinement of electrodeposition mechanism for fabrication of thin nickel films on n-type silicon (1 1 1)
چکیده انگلیسی
► Electrodeposition mechanism of nickel from sulfate base solutions. ► SEM examination to study the mechanism of nucleation and growth. ► Effect of chloride ions being adsorbed on silicon as an enhancing factor for nucleation rate. ► Hydrogen evolution influences mechanism and nucleation rate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Electroanalytical Chemistry - Volume 690, 1 February 2013, Pages 136-143
نویسندگان
, , , , , ,