کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6663221 | 463249 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Refinement of electrodeposition mechanism for fabrication of thin nickel films on n-type silicon (1Â 1Â 1)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Electrodeposition mechanism of nickel from sulfate base solutions. ⺠SEM examination to study the mechanism of nucleation and growth. ⺠Effect of chloride ions being adsorbed on silicon as an enhancing factor for nucleation rate. ⺠Hydrogen evolution influences mechanism and nucleation rate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Electroanalytical Chemistry - Volume 690, 1 February 2013, Pages 136-143
Journal: Journal of Electroanalytical Chemistry - Volume 690, 1 February 2013, Pages 136-143
نویسندگان
F. Nasirpouri, S.M. Janjan, S.M. Peighambari, M.G. Hosseini, A. Akbari, A.S. Samardak,