کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6946741 | 1450545 | 2015 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High temperature performances of normally-off p-GaN gate AlGaN/GaN HEMTs on SiC and Si substrates for power applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We analyse high temperature effects (up to 420 °C) in the performances of p-GaN gate normally-off AlGaN/GaN HEMTs on Si and SiC substrates for power applications. With increasing temperature, IDMAX (RON) decreases (increases) and the threshold voltage slightly decreases independently of the substrate and doping. The room temperature (RT) DC IV characteristics of the devices after 90 min at temperatures above 300 °C are not affected. Step stress experiments at 420 °C show more than twofold decrease of the blocking capabilities compared to RT. Finally, thermal activation of the vertical leakage current has been analysed up to 180 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 55, Issues 9â10, AugustâSeptember 2015, Pages 1687-1691
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 55, Issues 9â10, AugustâSeptember 2015, Pages 1687-1691
نویسندگان
Clément Fleury, Mattia Capriotti, Matteo Rigato, Oliver Hilt, Joachim Würfl, Joff Derluyn, Stephan Steinhauer, Anton Köck, Gottfried Strasser, Dionyz Pogany,