کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
702167 | 891080 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reactive ion etching of waveguide structures in diamond
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Waveguide structures were fabricated in both nanocrystalline CVD diamond (NCD) and HPHT type 1b single crystal diamond using photolithography and reactive ion etching. The combination of these techniques allows the patterning of many long photonic structures simultaneously, making it easily scalable. Emphasis has been placed on reducing sidewall roughness to prevent loss due to scattering. In single crystal diamond a peak-to-peak roughness of approximately 10 nm (estimated from SEM images) was achieved for the majority of the structure sidewall.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 17, Issue 11, November 2008, Pages 1831–1834
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 17, Issue 11, November 2008, Pages 1831–1834
نویسندگان
Mark P. Hiscocks, Christopher J. Kaalund, François Ladouceur, Shane T. Huntington, Brant C. Gibson, Steven Trpkovski, David Simpson, Eric Ampem-Lassen, Steven Prawer, James E. Butler,