کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7060978 1458757 2013 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی جریان سیال و فرایندهای انتقال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts
چکیده انگلیسی
► A combined molecular dynamics and ultrafast energy transport model is proposed. ► Response of a silicon film caused by femtosecond laser bursts is studied. ► The more the pulses or the longer the pulse separation time, the lower the carrier temperature. ► Thermal stress wave is weakened by increasing pulse separation time or pulse number.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: International Journal of Thermal Sciences - Volume 65, March 2013, Pages 1-8
نویسندگان
, ,