کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7060978 | 1458757 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
جریان سیال و فرایندهای انتقال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts](/preview/png/7060978.png)
چکیده انگلیسی
⺠A combined molecular dynamics and ultrafast energy transport model is proposed. ⺠Response of a silicon film caused by femtosecond laser bursts is studied. ⺠The more the pulses or the longer the pulse separation time, the lower the carrier temperature. ⺠Thermal stress wave is weakened by increasing pulse separation time or pulse number.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: International Journal of Thermal Sciences - Volume 65, March 2013, Pages 1-8
Journal: International Journal of Thermal Sciences - Volume 65, March 2013, Pages 1-8
نویسندگان
Yong Gan, J.K. Chen,