کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
7111188 1460766 2016 13 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ incorporation of silicon into a CVD diamond layer deposited under atmospheric conditions
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
In situ incorporation of silicon into a CVD diamond layer deposited under atmospheric conditions
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 65, May 2016, Pages 47-52
نویسندگان
, ,