کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7151190 | 1462262 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reaching sub-32Â nm nodes: ET-FDSOI and BOX optimization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Multi-Subband Ensemble Monte Carlo study of ultra thin SOI devices for sub-32 nm nodes. ⺠Impact of different Buried OXide configurations on Short Channel Effects (SCEs). ⺠Channel lengths shorter than 20 nm with thick BOX demand thickness smaller than 5 nm. ⺠Thickness variability and mobility reduction become an issue for so small thickness. ⺠Thin BOX combined to ground plane allows the use of thicker channels.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 70, April 2012, Pages 101-105
Journal: Solid-State Electronics - Volume 70, April 2012, Pages 101-105
نویسندگان
C. Sampedro, F. Gámiz, L. Donetti, A. Godoy,