کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7151319 | 1462265 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Performance trade-offs in polysilicon source-gated transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Self-aligned Schottky-source source-gated transistors (SGTs) have been made in polysilicon. The structures enable a direct comparison to be made between a SGT and a standard thin-film field-effect transistor (FET) on the same device. SGTs having excellent characteristics have been fabricated, with intrinsic gains approaching 10,000. The effects of bulk doping in the polysilicon and of the source barrier modification implant are considered in the context of the electrical output characteristics. It is shown that the choice of source length is a tradeoff between device speed and variations in current output due to variability during fabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volumes 65â66, NovemberâDecember 2011, Pages 246-249
Journal: Solid-State Electronics - Volumes 65â66, NovemberâDecember 2011, Pages 246-249
نویسندگان
R.A. Sporea, M.J. Trainor, N.D. Young, X. Guo, J.M. Shannon, S.R.P. Silva,