کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
747551 894538 2006 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Performance and physics of sub-50 nm strained Si on Si1−xGex-on-insulator (SGOI) nMOSFETs
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Performance and physics of sub-50 nm strained Si on Si1−xGex-on-insulator (SGOI) nMOSFETs
چکیده انگلیسی
Partially depleted floating body transistors on SGOI down to 30 nm gate length were fabricated and characterized. They demonstrate excellent static and RF performance. In particular, 40 nm gate length SGOI transistors exhibit a maximum oscillation frequency (fmax) estimated to be 150 GHz at VG = 0.4 V. The SGOI originality concerning the floating body effects, the RF characteristics and the short channel transport were in-depth studied in order to evaluate this architecture potentiality.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 4, April 2006, Pages 566-572
نویسندگان
, , , , , , , , , , , , ,