کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
747551 | 894538 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Performance and physics of sub-50Â nm strained Si on Si1âxGex-on-insulator (SGOI) nMOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Partially depleted floating body transistors on SGOI down to 30Â nm gate length were fabricated and characterized. They demonstrate excellent static and RF performance. In particular, 40Â nm gate length SGOI transistors exhibit a maximum oscillation frequency (fmax) estimated to be 150Â GHz at VGÂ =Â 0.4Â V. The SGOI originality concerning the floating body effects, the RF characteristics and the short channel transport were in-depth studied in order to evaluate this architecture potentiality.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 4, April 2006, Pages 566-572
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 4, April 2006, Pages 566-572
نویسندگان
F. Andrieu, T. Ernst, O. Faynot, O. Rozeau, Y. Bogumilowicz, J.-M. Hartmann, L. Brévard, A. Toffoli, D. Lafond, B. Ghyselen, F. Fournel, G. Ghibaudo, S. Deleonibus,