کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
748142 | 894736 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling of kink effect in polycrystalline silicon thin-film transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A new analytical DC model accounting for the kink effect of polycrystalline silicon thin-film transistors (poly-Si TFTs) is presented in this paper. When considering the exponential density of trap states in the film, a quasi-two-dimensional approach is used to give an analytic expression for avalanche multiplication factor. Compared with the available experimental data, the proposed model provides accurate description of the output characteristics over a wide range of bias voltages. Based on the kink model, higher drain voltages or higher trap states density leads to higher avalanche multiplication factors.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 6, June 2009, Pages 669–673
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 6, June 2009, Pages 669–673
نویسندگان
Wanling Deng, Xueren Zheng,