کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
748594 | 1462256 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Quantitative evaluation of gettering efficiencies in device process after p-well formation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Quantitative evaluation of gettering efficiencies in device process after p-well formation Quantitative evaluation of gettering efficiencies in device process after p-well formation](/preview/png/748594.png)
چکیده انگلیسی
⺠We evaluated gettering efficiencies in device process after p-well formation. ⺠For evaluation of gettering efficiencies, we used the trace analysis of the 65Cu and 60Ni isotope. ⺠We identify the wafer with good gettering ability and investigate the major effects of gettering. ⺠pâ/p+ epitaxial wafers have better gettering efficiency than other bulk silicon wafers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 76, October 2012, Pages 30-35
Journal: Solid-State Electronics - Volume 76, October 2012, Pages 30-35
نویسندگان
Sung-Wook Lee, Sang-Hak Lee, Don-Ha Hwang, Hee-Bog Kang,