کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
748594 1462256 2012 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Quantitative evaluation of gettering efficiencies in device process after p-well formation
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Quantitative evaluation of gettering efficiencies in device process after p-well formation
چکیده انگلیسی
► We evaluated gettering efficiencies in device process after p-well formation. ► For evaluation of gettering efficiencies, we used the trace analysis of the 65Cu and 60Ni isotope. ► We identify the wafer with good gettering ability and investigate the major effects of gettering. ► p−/p+ epitaxial wafers have better gettering efficiency than other bulk silicon wafers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 76, October 2012, Pages 30-35
نویسندگان
, , , ,