کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
748778 | 894789 | 2009 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Unified analytical threshold voltage model for non-uniformly doped dual metal gate fully depleted silicon-on-insulator MOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The paper describes the unified analytical threshold voltage model for non-uniformly doped, dual metal gate (DMG) fully depleted silicon-on-insulator (FDSOI) MOSFETs based on the solution of 2D Poisson’s equation. 2D Poisson’s equation is solved analytically for appropriate boundary conditions using separation of variables technique. The solution is then extended to obtain the threshold voltage of the FDSOI MOSFET. The model is able to handle any kind of non-uniform doping, viz. vertical, lateral as well as laterally asymetric channel (LAC) profile in the SOI film in addition to the DMG structure. The analytical results are validated with the numerical simulations using the device simulator MEDICI.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 3, March 2009, Pages 256–265
Journal: Solid-State Electronics - Volume 53, Issue 3, March 2009, Pages 256–265
نویسندگان
Rathnamala Rao, Guruprasad Katti, Dnyanesh S. Havaldar, Nandita DasGupta, Amitava DasGupta,