کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
753075 | 895492 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Germanium vertical Tunneling Field-Effect Transistor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The first realization of a pure Germanium bulk vertical Tunneling Field-Effect Transistor (vTFET) and a high Ion/Ioff ratio for a pure Silicon bulk vTFET are both reported. The manufacturing process, the electrical characteristics and key features and the differences of the two varieties of vTFET devices (pure Germanium bulk vTFET and pure Silicon bulk vTFET) will be discussed in detail.
► We report on the first realization of a pure Ge bulk vertical TFET.
► We compare the performance of a pure Ge bulk vTFET with a pure Si bulk vTFET.
► We examine that the main transport mechanism in the vTFETs is due to BTB tunneling.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 62, Issue 1, August 2011, Pages 132–137
Journal: Solid-State Electronics - Volume 62, Issue 1, August 2011, Pages 132–137
نویسندگان
D. Hähnel, M. Oehme, M. Sarlija, A. Karmous, M. Schmid, J. Werner, O. Kirfel, I. Fischer, J. Schulze,