کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
753435 | 895529 | 2008 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
k·p calculations of p-type δ-doped quantum wells in Si
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We present the hole subband structure calculation in single and double p-type δ-doped quantum wells in Si based on the 4Ã4 Luttinger-Kohn Hamiltonian. The valence band bending and the Î hole states are calculated within the lines of the Thomas-Fermi-Dirac approximation and the effective mass theory at the Brillouin zone center. The obtained zone center eigenstates are then used to diagonalize the k·p Hamiltonian for non-zero k. The hole subband structure is analyzed as a function of the impurity density and the distance between δ wells. It is shown that the application of a 4Ã4 model to describe the hole ground state in single p-type δ-doped in Si can be misleading.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 52, Issue 6, June 2008, Pages 849-856
Journal: Solid-State Electronics - Volume 52, Issue 6, June 2008, Pages 849-856
نویسندگان
Isaac RodrÃguez-Vargas, Miguel E. Mora-Ramos,