کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
753624 | 895556 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling Kirk effect of RESURF LDMOS
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Two-dimensional surface electric field in the drift region of RESURF LDMOS is modeled in the off-state and on-state. Numerical results are shown to support the analytical results. Based on these results, 3-D Kirk effect is modeled. The reason inducing high electric field near the drain is demonstrated and methods to lower the high electric field are proposed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 12, December 2005, Pages 1896–1899
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 12, December 2005, Pages 1896–1899
نویسندگان
Zhilin Sun, Weifeng Sun, Longxing Shi,