کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8015924 | 1517203 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasmonic properties of titanium nitride thin films prepared by ion beam assisted deposition
ترجمه فارسی عنوان
خواص پلاسمونیک فیلم های نازک تیتانیوم نیترید تهیه شده توسط پرتو یونی کمک رسوب شده است
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
نیترید تیتانیوم، فیلم های نازک پلاسمونیک، مواد و خواص نوری، تغییر شکل پرتو یون،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Titanium nitride (TiNx) is regarded as a kind of promising plasmonic material for its high performances. We studied the influence of nitrogen partial pressure pn and deposition temperature Td on the structural and plasmonic properties of the TiNx thin films prepared by ion beam assisted deposition (IBAD). The results show that IBAD is an effective method to tailor the plasmonic properties of TiNx films in visible and near-IR region. The plasmonic properties of the films have significant Td and pn dependence. Higher pn and lower Td can reduce the plasma frequency and the plasmon resonance. Higher pn and higher Td can reduce the optical loss of the samples. The modification of the plasmonic properties is related to the variation of nitrogen content.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 185, 15 December 2016, Pages 295-298
Journal: Materials Letters - Volume 185, 15 December 2016, Pages 295-298
نویسندگان
Lin-Ao Zhang, Hao-Nan Liu, Xiao-Xia Suo, Shuo Tong, Ying-Lan Li, Zhao-Tan Jiang, Zhi Wang,