کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8028087 | 1517637 | 2014 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Model based investigation of Ar+ ion damage in DC magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Further investigation revealed that the IEDFs' high energy tail correlates with the extent of plasma fluctuations seen at certain process conditions. Several experimental studies in recent years have broached the issue of such plasma fluctuations in magnetron discharges. However, PIC-MC simulation data could provide more detailed insights into cause and effect of this inherent discharge anomaly. Thus, it could be instructively revealed how electric field enhancements accompanying these fluctuations affect the IEDF and generation of high energy ions, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 241, 25 February 2014, Pages 50-53
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 241, 25 February 2014, Pages 50-53
نویسندگان
Michael Siemers, Andreas Pflug, Thomas Melzig, Kai Gehrke, Andreas Weimar, Bernd Szyszka,