کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030573 | 1517663 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth kinetics of titanium borides produced by CRTD-Bor method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠A new boriding method (CRTD-Bor) was applied to titanium in a systematic manner. ⺠All produced boride layers consisted of TiB2 on top and TiB whiskers underneath. ⺠A short processing time (30 min) was enough to grow uniform thick boride layers. ⺠The activation energy of TiB2 layer was determined as 189.9 kJ/mol. ⺠The study resulted in a diagram to be used in the prediction of TiB2 thickness.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 215, 25 January 2013, Pages 440-446
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 215, 25 January 2013, Pages 440-446
نویسندگان
G. Kartal, S. Timur,