کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030637 | 1517666 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High rate deposition of amorphous hydrogenated carbon films by hollow cathode arc PECVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: High rate deposition of amorphous hydrogenated carbon films by hollow cathode arc PECVD High rate deposition of amorphous hydrogenated carbon films by hollow cathode arc PECVD](/preview/png/8030637.png)
چکیده انگلیسی
⺠Acetylene is strongly depleted in a magnetically enhanced hollow cathode arc plasma. ⺠Dissociation and polymerization products have been detected by mass spectrometry. ⺠Amorphous hydrogenated carbon films have been grown with rates up to 1 μm/min. ⺠The film with maximum hardness of 18.2 GPa shows dense morphology in the SEM picture. ⺠The film composition has been examined by elastic recoil detection analysis.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 212, November 2012, Pages 67-71
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 212, November 2012, Pages 67-71
نویسندگان
Burkhard Zimmermann, Fred Fietzke, Heidrun Klostermann, Jan Lehmann, Frans Munnik, Wolfhard Möller,