کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030731 | 1517667 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Localised plasma deposition of organosilicon layers on polymer substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A new dielectric barrier discharge (DBD) plasma mini reactor was designed which allows in-line patterned deposition of SiOx and SiOxCyHz. Small channels, incorporated in the polymer product or electrode of the reactor, allowed local deposition of the films, using only small amounts of helium and HMDSO. As a test case, the channels of a lab-on-a-chip device were given locally hydrophilic and hydrophobic coatings after bonding of lid and substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 211, 25 October 2012, Pages 9-13
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 211, 25 October 2012, Pages 9-13
نویسندگان
Mirjam Theelen, David Habets, Lutz Staemmler, Hans Winands, Pieter Bolt,