کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8030794 | 1517667 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Increased thermal stability of Ti-Al-N thin films by Ta alloying
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Ab initio results show a lower energy of formation with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ⺠Ab initio results show an increasing bonding strength with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ⺠Experiments show that w-AlN forms at 200-300 °C higher Ta with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ⺠Ta free Ti-Al-N coatings fully oxidize during annealing in ambient air at 850 and 950 °C for 20 h. ⺠3 at.% Ta in Ti-Al-Ta-N effectively protect against oxidation at similar annealing conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 211, 25 October 2012, Pages 98-103
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 211, 25 October 2012, Pages 98-103
نویسندگان
R. Rachbauer, D. Holec, P.H. Mayrhofer,