کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8030794 1517667 2012 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Increased thermal stability of Ti-Al-N thin films by Ta alloying
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Increased thermal stability of Ti-Al-N thin films by Ta alloying
چکیده انگلیسی
► Ab initio results show a lower energy of formation with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ► Ab initio results show an increasing bonding strength with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ► Experiments show that w-AlN forms at 200-300 °C higher Ta with increasing Ta content in Ti-Al-Ta-N. ► Ta free Ti-Al-N coatings fully oxidize during annealing in ambient air at 850 and 950 °C for 20 h. ► 3 at.% Ta in Ti-Al-Ta-N effectively protect against oxidation at similar annealing conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 211, 25 October 2012, Pages 98-103
نویسندگان
, , ,