کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8037887 1518313 2016 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Parallel preparation of plan-view transmission electron microscopy specimens by vapor-phase etching with integrated etch stops
ترجمه فارسی عنوان
آماده سازی موازی نمونه های میکروسکوپ الکترونی انتقال از طریق اکسپرس فاز بخار با استفاده از اچ های متقارن
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
آماده سازی نمونه یک چالش عملی در میکروسکوپ الکترونی انتقال است و اغلب کیفیت داده های مشخصه ساختاری و شیمیایی را به دست می دهد. روش های غالب برای نازک شدن نمونه ها به شفافیت الکترون ها، طبیعتا سریعی هستند، وقت گیر هستند و مستعد تولید مصنوعات و شکست نمونه هستند. این کار یک روش جایگزین برای تهیه نمونه ای از طرح های مشاهده شده با استفاده از اترها با فاز بخار ایزوتروپیک با استفاده از اچ های یکپارچه اچ است. یک لایه سفت کننده ایزوتوپ آمورف به طور همزمان به عنوان یک غشاء حمایت کننده شفاب الکترون استفاده می شود که ضخامت آن توسط یک فرایند رشد کنترل شده مانند لایه اتمی با دقت زیر نانومتری تعریف شده است. این روش نیاز به جراحی مکانیکی یا تراکم یونها را برای رسیدن به شفافیت الکترونی حذف می کند و باعث می شود که مصنوعات تولید شده بوجود آید. علاوه بر این، چندین نمونه از چندین نمونه را می توان به صورت موازی به علت انتخاب انتخابی بالا از فرایند اکساندن بخار فاز کاهش داد. این ویژگی ها باعث کاهش قابل ملاحظه ای در زمان و هزینه آماده سازی می شود بدون اینکه کیفیت نمونه را به خطر بیاندازد و مزایایی را نسبت به تکنیک های خیس شدن مرطوب ارائه دهد. در نهایت، ما یک پلت فرم برای میکروسکوپ الکترونی با پروتئین بالا از نمونه های برنامه ریزی را نشان می دهیم، با ترکیب قابلیت های آماده سازی موازی از اکسپرس فاز با مقیاس وفر کوچک و نانو ساختار.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش مقاله
آماده سازی موازی نمونه های میکروسکوپ الکترونی انتقال از طریق اکسپرس فاز بخار با استفاده از اچ های متقارن
چکیده انگلیسی
Specimen preparation remains a practical challenge in transmission electron microscopy and frequently limits the quality of structural and chemical characterization data obtained. Prevailing methods for thinning of specimens to electron transparency are serial in nature, time consuming, and prone to producing artifacts and specimen failure. This work presents an alternative method for the preparation of plan-view specimens using isotropic vapor-phase etching with integrated etch stops. An ultrathin amorphous etch-stop layer simultaneously serves as an electron transparent support membrane whose thickness is defined by a controlled growth process such as atomic layer deposition with sub-nanometer precision. This approach eliminates the need for mechanical polishing or ion milling to achieve electron transparency, and reduces the occurrence of preparation induced artifacts. Furthermore, multiple specimens from a plurality of samples can be thinned in parallel due to high selectivity of the vapor-phase etching process. These features enable dramatic reductions in preparation time and cost without sacrificing specimen quality and provide advantages over wet etching techniques. Finally, we demonstrate a platform for high-throughput transmission electron microscopy of plan-view specimens by combining the parallel preparation capabilities of vapor-phase etching with wafer-scale micro- and nanofabrication.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 166, July 2016, Pages 39-47
نویسندگان
, , , , ,