کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9572195 1388504 2005 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
XPS and ARXPS investigations of ultra thin TaN films deposited on SiO2 and Si
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
XPS and ARXPS investigations of ultra thin TaN films deposited on SiO2 and Si
چکیده انگلیسی
Based on these observations layer models for quantification of ARXPS measurements by means of model calculations were derived, so it was possible to obtain information on the in-depth element distribution in a non-destructive manner. For comparison to the ARXPS investigations analyses of the inelastic background of the Ta4d peak are shown and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 1, 30 September 2005, Pages 234-239
نویسندگان
, , , ,