کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9572195 | 1388504 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
XPS and ARXPS investigations of ultra thin TaN films deposited on SiO2 and Si
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Based on these observations layer models for quantification of ARXPS measurements by means of model calculations were derived, so it was possible to obtain information on the in-depth element distribution in a non-destructive manner. For comparison to the ARXPS investigations analyses of the inelastic background of the Ta4d peak are shown and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 1, 30 September 2005, Pages 234-239
Journal: Applied Surface Science - Volume 252, Issue 1, 30 September 2005, Pages 234-239
نویسندگان
M. Zier, S. Oswald, R. Reiche, K. Wetzig,