کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9809468 | 1517710 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and properties of titanium oxide layers deposited by reactive plasma activated electron beam evaporation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Measurements of the contact angle show a promising super hydrophilicity of anatase layers. Therefore these layers should be well-suited as coatings with self-cleaning or antifogging properties. At TS below 150 °C the plasma activation enables the deposition of dense, high-refractive layers at very high deposition rates for applications as optical layers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 1â4, 1 October 2005, Pages 306-309
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 1â4, 1 October 2005, Pages 306-309
نویسندگان
T. Modes, B. Scheffel, Chr. Metzner, O. Zywitzki, E. Reinhold,