کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9817472 | 1518765 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High energy focused ion beam lithography using P-beam writing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The term “P-beam writing” is used to describe the technique of using focused high energy proton microbeams for micro or nanofabrication applications. The P-beam technique can be used to rapidly fabricate three-dimensional, high aspect ratio microstructures in a variety of materials without the use of masks and it is proving to be a versatile lithographic method. Recent developments in the application P-beam writing of microstructures at the Louisiana Accelerator Center are presented.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 241, Issues 1â4, December 2005, Pages 397-401
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 241, Issues 1â4, December 2005, Pages 397-401
نویسندگان
Gary A. Glass, Bibhudutta Rout, Alexander D. Dymnikov, Richard R. Greco, Mithun Kamal, James R. Reinhardt, John A. Peeples,