کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9829527 | 1524493 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and residual stress in γ-LiAlO2 layer fabricated by vapor transport equilibration on (0 0 0 1) sapphire
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
γ-LiAlO2 layers with a highly preferred (1 0 0) orientation were prepared by vapor transport equilibration (VTE) technique on (0 0 0 1) sapphire substrate. Microstructure of the γ-LiAlO2 layers was studied by XRD and SEM. In the temperature range from 750 to 1100 °C, the residual stress in the γ-LiAlO2 layers varied from tensile to compressive with the increase of VTE temperature, and the critical point of the change between tensile and compressive stress is around 975 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 282, Issues 1â2, 15 August 2005, Pages 186-189
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 282, Issues 1â2, 15 August 2005, Pages 186-189
نویسندگان
Shuzhi Li, Weiqiao Yang, Yinzhen Wang, Junfang Liu, Shengming Zhou, Jun Xu, Ping Han, Rong zhang,