Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Deep reactive ion etching; Fused silica etch; UV nanoimprint lithography; Nanowalls;
مقالات ISI اچینگ یون واکنش پذیر عمیق (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; PZR; piezoresistive; CAP; capacitive; SOI; silicon on insulator; DRIE; deep reactive ion etching; NW; nanowire; Pressure transducers; Minimally invasive; Cardiovascular sensing; Micromachining; Miniaturization; Downscaling;
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; MEMS; Neural probes; Flexible probes; Cortical electrophysiology; BMI; brain-machine interface; NC; nanocomposite; DRIE; deep reactive ion etching;
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Silicon carbide; Switchable wettability; Flexible materials; SERS; Deep reactive ion etching
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Micromachined ion traps; Miniaturization; MEMS; Cylindrical ion trap array; Deep reactive ion etching; SOI wafer
Microfluidic device based on deep reactive ion etching process and its lag effect for single cell capture and extraction
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Microfluidic device; Single cell capture and extraction; Deep reactive ion etching; Lag effect; The least flow resistance path;
Effect of Si nanostructures on PEDOT:PSS Si hybrid solar cells
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Hybrid solar cell; Nanoimprint; Metal assisted chemical etching; Micro(nano) pattern; HT-LPS; high-temperature liquid-phase synthesis; FESEM; field-emission scanning electron microscope; VLS; vapor-liquid-solid; PEDOT:PSS; poly(3,4-ethylenedioxythiophene)
Deep reactive ion etching of in situ boron doped LPCVD Ge0.7Si0.3 using SF6 and O2 plasma
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Deep reactive ion etching; Ge0.7Si0.3; Etch selectivity; Resonator
Fabrication of two-dimensional hard X-ray diffraction gratings
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; X-ray imaging; X-ray metrology; Phase contrast imaging; Grating interferometry; Deep reactive ion etching; Gold electroplating
A novel submicron-gap electrode fabrication technology using thermal oxidation
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Submicron-gap electrode; Thermal oxidation; Deep reactive ion etching; Photolithography; Metallization;
A buried vertical filter for micro and nanoparticle filtration
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; DFR; dry film photo-resist; DI; de-ionized (demineralized); DRIE; deep reactive ion etching; LPCVD; low pressure chemical vapor deposition; PECVD; plasma enhanced chemical vapor deposition; SEM; scanning electron microscope; Silicon micromachining; Partic
Fabrication of AD/DA microfluidic converter using deep reactive ion etching of silicon and low temperature wafer bonding
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Microfluidic converter; Electrowetting on dielectric; Adhesive bonding; Deep reactive ion etching
Nanostructured silicon electrodes for solid-state 3-d rechargeable lithium batteries
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Silicon; Solid electrolyte; Deep reactive ion etching; Rechargeable battery
Superhydrophobic silicon surfaces with micro–nano hierarchical structures via deep reactive ion etching and galvanic etching
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Superhydrophobic; Hierarchical structure; Deep reactive ion etching; Galvanic etching; Two-scale model
Measurement of Poisson’s ratio by means of a direct tension test on micron-sized specimens
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Micro-specimen; Dog-bone specimen; Digital image correlation; Single crystal silicon; Deep reactive ion etching; Mechanical properties
Three-dimensional level set based Bosch process simulations using ray tracing for flux calculation
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Bosch process; Deep reactive ion etching; Level set method; Monte Carlo; Ray tracing
Micromachined X-ray collector for space astronomy
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; 07.85; 07.10.Cm; 41.50; 95.55.Ka; X-ray collector; Anisotropic wet etching; Deep reactive ion etching;
Effect of improved wettability of silicon-based materials with electrolyte for void free copper deposition in high aspect ratio through-vias
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Through-wafer electroplating; Wettability; Surface treatment; Deep reactive ion etching
Double-chip condenser microphone for rigid backplate using DRIE and wafer bonding technology
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Au/Sn eutectic bonding; Deep reactive ion etching; MEMS condenser microphone; Packaging; Rigid backplate; Double chip technology; Wafer bonding
Study of surface treatment processes for improvement in the wettability of silicon-based materials used in high aspect ratio through-via copper electroplating
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; 81.15.Pq; 81.65.-b; 68.08.Bc; Through-wafer electroplating; Contact angle; Surface treatment; Deep reactive ion etching; Wettability;
Modeling and fabrication of capillary stop valves for planar microfluidic systems
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Capillary stop valves; Modeling; Finite Element Method; Deep Reactive Ion Etching; Microfluidics
Fabrication of plastic microlens array using gas-assisted micro-hot-embossing with a silicon mold
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Gas-assisted micro-hot-embossing; Hot embossing; Deep reactive ion etching; Replication; Silicon mold; Microlens array
Microfabricated textured surfaces for super-hydrophobicity investigations
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Microstructures; Deep reactive ion etching; Wetting properties; Super-hydrophobicity;
Deep dry etching of borosilicate glass using SF6 and SF6/Ar inductively coupled plasmas
Keywords: اچینگ یون واکنش پذیر عمیق; Borosilicate glass; Deep reactive ion etching; Microfluidic channel; Inductively coupled plasma; Ni hard-mask;