Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Hot target; Magnetron sputtering; Nickel films; Deposition parameters; Structural features;
مقالات ISI پارامترهای رسوبگذاری (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Silicon oxycarbide films; Optical properties; RF-magnetron sputtering; Deposition parameters
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Deposition parameters; Spray pyrolysis; Single-phase SnS films
Optical, structural evolution and surface morphology studies of hydrogenated silicon films synthesized by rf-magnetron sputtering: Effects of pressure and radio frequency power at low temperature
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Deposition parameters; Hydrogenated microcrystalline silicon structure; rf power; Roughness; Radiofrequency magnetron sputtering; Optical studies;
Study of cathode current effect on the properties of CrAlSiN coatings prepared by LARC
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; CrAlSiN hard coatings; LARC; Deposition parameters; Properties;
Structural, optical, and photocatalytic properties of the spray deposited nanoporous CdS thin films; influence of copper doping, annealing, and deposition parameters
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Cu-doped CdS; Nanoporous films; Deposition parameters; Refractive index; Optical constants; MB removal;
Selection of boron based tribological hard coatings using multi-criteria decision making methods
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Materials selection; Multi-criteria decision-making method; Boron based hard coatings; Deposition parameters; Cutting tool
Electrochromism of DC magnetron sputtered TiO2 thin films: Role of deposition parameters
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Electrochromism; Thin films; Titanium dioxide; Sputter deposition; Deposition parameters
Influence of the deposition parameters on the properties of orthorhombic SnS films by chemical bath deposition
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Stannous sulfide; Thin films; Chemical bath deposition; Deposition parameters;
Pressure effects on HiPIMS deposition of hafnium films
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; HiPIMS; Hafnium; Titanium; Deposition parameters; Pressure; Crystallographic orientation;
The effect of process conditions on the properties of bioactive films prepared by magnetron sputtering
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Radio frequency (RF) magnetron sputtering; Thin HA films; Deposition parameters; Influencing factors
Effects of deposition parameters on SiCln (n=0-2) densities in SiCl4 glow discharge plasma
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; Deposition parameters; SiCln (n=0-2) radicals; Mass spectrometry;
Different parameters for the deposition of La1.85Sr0.15CuO4 and Nd1.85Ce0.15CuO4 superconducting films by the novel pulsed electron deposition technique
Keywords: پارامترهای رسوبگذاری; 74.72.âh; 74.78.Bz; 81.15.âz; 81.40.âz; La1.85Sr0.15CuO4 and Nd1.85Ce0.15CuO4; High-TC superconductor films; Pulsed electron deposition technique; Deposition parameters;