کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1658517 | 1008344 | 2012 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pressure effects on HiPIMS deposition of hafnium films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Comparison of plasma conditions between Hf and Ti HiPIMS depositions. ⺠HiPIMS sputtering regimes for Hf showed stronger pressure dependence compared to Ti. ⺠HiPIMS deposition promoted growth of the (100) orientation in Hf and Ti films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 18, 15 May 2012, Pages 3795-3802
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 18, 15 May 2012, Pages 3795-3802
نویسندگان
A.N. Reed, M.A. Lange, C. Muratore, J.E. Bultman, J.G. Jones, A.A. Voevodin,