Keywords: Pattern collapse; Photoresist; Developing; EUV interference lithography; EUV lithography; Electron beam lithography; HSQ; PMMA;
مقالات ISI (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Strength analysis of EUV-exposed photo resists by AFM at 40Â nm half pitch and below
Keywords: EUV lithography; AFM; Photo resists; Pattern collapse; Yield stress;
Investigation of three-dimensional pattern collapse owing to surface tension using an imperfection finite element model
Keywords: Two-photon polymerisation; 3D microfabrication; 3D microstructure; Pattern collapse
Surfactant-aided supercritical carbon dioxide drying for photoresists to prevent pattern collapse
Keywords: Supercritical carbon dioxide; Pattern collapse; Surfactant; Wafer cleaning; Photoresist
The adsorption of cationic surfactants on photoresist surfaces and its effect on the pattern collapse in high aspect ratio patterning
Keywords: Pattern collapse; Capillary forces; Cationic surfactant; Adsorption; Hydrocarbon chain length
Adhesion improvement of ArF resist pattern depending on BARC material
Keywords: BARC; Adhesion; Atomic force microscopy; Pattern collapse; Roughness; Interface deformation; Interface interaction; DPAT method