کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942794 1450326 2016 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pattern collapse mitigation in inorganic resists via a polymer freeze technique
ترجمه فارسی عنوان
کاهش الگوی سقوط در مقاومت در برابر معدنی از طریق تکنیک انجماد پلیمر
ترجمه چکیده
ما هر دو لایتوگرافی تداخل فرابنفش مادون قرمز و اشعه لیتوگرافی پرتو الکترونی را انجام داده ایم و گسترش پنجره های فرآیند را نسبت به دوزهای کوچکتر و همچنین افزایش نسبت ابعاد ساختارهای مقاوم در برابر استحکام قرار داده ایم.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
We have carried out both extreme ultraviolet interference lithography and electron beam lithography exposures and confirmed the expansion of the process window towards smaller doses as well as the increase in aspect ratios of resist structures that remain freestanding.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 155, 2 April 2016, Pages 39-43
نویسندگان
, , , ,