Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Plasma enhanced atomic layer deposition; Silicon dioxide; Di-isopropylaminosilane; Oxygen plasma; Growth per cycle; Wet etching; Etching rate;
مقالات ISI پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Comparing XPS on bare and capped ZrN films grown by plasma enhanced ALD: Effect of ambient oxidation
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; PEALD; Plasma enhanced atomic layer deposition; ICP; Inductively coupled plasma; XPS; X-ray photoelectron spectroscopy; dOx; native oxide thickness on bare ZrN sample; tsput; sputtering time in depth-profile XPS; dsput; sputtered depth from the sample sur
Improved stability of electrical properties of nitrogen-added Al2O3 films grown by PEALD as gate dielectric
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Atomic layer deposition; Plasma enhanced atomic layer deposition; Remote plasma atomic layer deposition; Dielectric materials; Al2O3 gate dielectric
Surface treatments on AlGaN/GaN heterostructures for gate dielectric Al2O3 thin films grown by Atomic Layer Deposition
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Alumina; Dielectrics; Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition;
Characterization of HfOxNy thin film formation by in-situ plasma enhanced atomic layer deposition using NH3 and N2 plasmas
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; HfON thin film; Plasma enhanced atomic layer deposition; NH3 plasma; N2 plasma; Interfacial layer;
Scalability of RuTiN barriers deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition for advanced interconnects
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Plasma enhanced atomic layer deposition; Ruthenium; Interconnects; Barrier
Precursors as enablers of ALD technology: Contributions from University of Helsinki
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; acac; acetylacetonate; ALD; atomic layer deposition; CET; capacitance equivalent thickness; CHT; cycloheptatrienyl; CHD; cyclohexadiene; CMOS; complementary metal oxide semiconductor; CN; coordination number; Cp; cyclopentadienide; COD; cyclooctadiene; CV
Properties of LaAlO3 thin film on GaAs(1 0 0) treated by in situ NH3 plasma
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Plasma enhanced atomic layer deposition; High-k dielectrics; III–V semiconductors; X-ray photoelectron spectra; Transmission electron microscopy; MIS capacitors
Temperature dependence of SiO2 film growth with plasma-enhanced atomic layer deposition
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; Silicon dioxide; Atomic layer deposition; Plasma enhanced atomic layer deposition; Growth per cycle; Adsorption
Photocatalytic functional coatings of TiO2 thin films on polymer substrate by plasma enhanced atomic layer deposition
Keywords: پلاسما رسوبات لایه اتمی را افزایش داد; TiO2; Photocatalyst; Plasma enhanced atomic layer deposition; Self-cleaning effect; Polymer substrate