![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Very shallow boron junctions in Si by implantation and SOD diffusion obtained by RTP
Keywords: اتصالات کوچک; Shallow junctions; Boron implants; BF2 implants; Boron SOD; High boron concentration