کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
749734 | 894845 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A novel 50 nm vertical MOSFET with a dielectric pocket
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A vertical metal-oxide-semiconductor field-effect transistor with the novel feature of a dielectric pocket between the channel and source/drain has been fabricated and tested. These dielectric pocket vertical MOSFETs (DPV-MOSFETs) show an improved suppression of short-channel effects such as VT roll-off and drain induced barrier lowering (DIBL). This is due to reduced charge sharing, thus allowing better threshold voltage control. The dielectric pocket also prevents dopant diffusion from the source/drains into the body during device fabrication, mitigating bulk punchthrough.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 5, May 2006, Pages 897–900
Journal: Solid-State Electronics - Volume 50, Issue 5, May 2006, Pages 897–900
نویسندگان
S.K. Jayanarayanan, S. Dey, J.P. Donnelly, S.K. Banerjee,