Keywords: یکنواختی ضخامت; Graphite nanofilm formation; Surface precipitation; Thickness uniformity;
مقالات ISI یکنواختی ضخامت (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: یکنواختی ضخامت; Silicon-on-insulator; Thickness uniformity; Photoetching; N-Fluoropyridinium salt;
Keywords: یکنواختی ضخامت; Silicon detector; SOI technology; Thickness uniformity; Fizeau interferometer; ÎE-E; Solar energetic particles;
Keywords: یکنواختی ضخامت; Electroforming; Auxiliary electrode; Current density; Probe pin; Thickness uniformity
Characterization of wafer-scale MoS2 and WSe2 2D films by spectroscopic ellipsometry
Keywords: یکنواختی ضخامت; MoS2; WSe2; Dielectric function; Spectroscopic ellipsometry; Thickness uniformity;
Determination of thickness uniformity of a transparent film based on in-plane ESPI and radial basis function
Keywords: یکنواختی ضخامت; Thickness uniformity; Electronic speckle pattern interferometry; Spatial carrier; Radial basis function;
High uniform growth of 4-inch GaN wafer via flow field optimization by HVPE
Keywords: یکنواختی ضخامت; A3. Hydride vapor phase epitaxy; Nozzle structures; Thickness uniformity; Flow field; 4-inch GaN;
Highly uniform growth of 2-inch GaN wafers with a multi-wafer HVPE system
Keywords: یکنواختی ضخامت; A3. HVPE; Thickness uniformity; GaN; Multi-wafer; Mass production;
Large-area uniform hydrogen-free diamond-like carbon films prepared by unbalanced magnetron sputtering for infrared anti-reflection coatings
Keywords: یکنواختی ضخامت; Diamond-like carbon films; Unbalanced magnetron sputtering (UBMS); Thickness uniformity; Physical vapor deposition (PVD)
Development of CIGS2 thin film solar cells
Keywords: یکنواختی ضخامت; CIGSS thin film solar cells; Sol-gel; Sputtering target; Thickness uniformity;