کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970771 1450301 2017 12 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Photoetching method that provides improved silicon-on-insulator layer thickness uniformity in a defined area
ترجمه فارسی عنوان
روش رنگ آمیزی که یکنواختی ضخامت لایه سیلیکون-روی-ایزولاتور را در یک ناحیه مشخص فراهم می کند
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 93-95
نویسندگان
, , , , , , , ,