کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970771 | 1450301 | 2017 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Photoetching method that provides improved silicon-on-insulator layer thickness uniformity in a defined area
ترجمه فارسی عنوان
روش رنگ آمیزی که یکنواختی ضخامت لایه سیلیکون-روی-ایزولاتور را در یک ناحیه مشخص فراهم می کند
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 93-95
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 93-95
نویسندگان
Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Miho Morita, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita,