کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10411747 | 894788 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SOI technology characterization using SOI-MOS capacitor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper a set of simple methods is presented, to determine the main parameters of the silicon on insulator technology, using a thin film SOI-MOS capacitor. Methods to obtain the effective substrate doping concentration, substrate interface charge density and the buried oxide thickness using the two terminal SOI capacitor are presented. The front gate oxide thickness, the silicon film thickness, the silicon doping concentration and front and back interface charge density are obtained using a three terminal SOI-MOS capacitor. Bidimensional numerical simulations of SOI structure are performed for analyzing the high frequency capacitance vs. voltage curves and to test the proposed methods. These methods were applied experimentally and coherent results were found.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 1, January 2005, Pages 109-116
Journal: Solid-State Electronics - Volume 49, Issue 1, January 2005, Pages 109-116
نویسندگان
Victor Sonnenberg, João Antonio Martino,