کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668240 | 1008352 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Conformality of thermal and plasma enhanced atomic layer deposition on a non-woven fibrous substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We model the coverage of a non-woven substrate by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition. ⺠The results are compared to experiments. ⺠The conformality of thermal ALD is limited by diffusion. ⺠The conformality of plasma enhanced ALD is limited by radical recombination.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4511-4517
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4511-4517
نویسندگان
J. Musschoot, J. Dendooven, D. Deduytsche, J. Haemers, G. Buyle, C. Detavernier,