کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10707163 | 1023631 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Molecular beam epitaxial growth of gallium nitride nanowires on atomic layer deposited aluminum oxide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠MBE growth of GaN nanowires on ALD aluminum oxide. ⺠Nanowires grow crystalline regardless of amorphous nature of Al2O3 layer. ⺠Nanowires are free of dislocations even at Al2O3 interface. ⺠Yields method of producing crystalline material on amorphous substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 113-117
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 113-117
نویسندگان
Kevin Goodman, Vladimir Protasenko, Jai Verma, Tom Kosel, Grace Xing, Debdeep Jena,