| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 10707163 | 1023631 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Molecular beam epitaxial growth of gallium nitride nanowires on atomic layer deposited aluminum oxide
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												کلمات کلیدی
												
											موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													فیزیک و نجوم
													فیزیک ماده چگال
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												
												چکیده انگلیسی
												⺠MBE growth of GaN nanowires on ALD aluminum oxide. ⺠Nanowires grow crystalline regardless of amorphous nature of Al2O3 layer. ⺠Nanowires are free of dislocations even at Al2O3 interface. ⺠Yields method of producing crystalline material on amorphous substrate.
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 113-117
											Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 113-117
نویسندگان
												Kevin Goodman, Vladimir Protasenko, Jai Verma, Tom Kosel, Grace Xing, Debdeep Jena,