کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
11007989 | 1840490 | 2018 | 15 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 201, 5 December 2018, Pages 1-5
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 201, 5 December 2018, Pages 1-5
نویسندگان
Shujuan Mao, Guilei Wang, Jing Xu, Dan Zhang, Xue Luo, Wenwu Wang, Dapeng Chen, Junfeng Li, Anyan Du, Chao Zhao, Tianchun Ye, Jun Luo,