کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1241147 | 969171 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Total reflection x-ray fluorescence as a sensitive analysis method for the investigation of sputtering processes
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Angular distributions of sputtered germanium atoms during the grazing incidence of argon ions were investigated. Argon ion beams with angles of incidence of 75° and 80° and with ion energy of 20 keV were used in sputtering experiments. TXRF analysis showed to be an excellent method for measuring the angular distribution of sputtered atoms due to its low detection limit under total reflection conditions. The experimental data are compared to Monte-Carlo simulations. The observed differences are discussed, and suggestions for improving the Monte-Carlo simulation of ion sputtering are made.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy - Volume 63, Issue 12, December 2008, Pages 1382-1386
Journal: Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy - Volume 63, Issue 12, December 2008, Pages 1382-1386
نویسندگان
M. Sekowski, C. Steen, A. Nutsch, E. Birnbaum, A. Burenkov, P. Pichler,