کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1532724 | 1512188 | 2006 | 48 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanoscale materials patterning and engineering by atomic force microscopy nanolithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
2DEGtrimethylsilylAFMDPNNTSMHASTMSAMOTShexamethyldisilazaneHMDSPVKODTCAFMCNTOctadecyltrichlorosilaneNC-AFMFowler–Nordheim1-OctadecanethiolTMSAnodic oxidation - اکسیداسیون آنودیک16-Mercaptohexadecanoic acid - 16-مکراپهوشیدکانیک اسیدI–V - I - VSelf-assembled monolayer - تک لایه ی خودمختارcurrent–voltage - جریان ولتاژglass transition temperature - دمای انتقال شیشهSEM - مدل معادلات ساختاری / میکروسکوپ الکترونی روبشیscanning electron microscope - میکروسکوپ الکترونی اسکنScanning tunneling microscopy - میکروسکوپ تونلی روبشی atomic force microscopy - میکروسکوپ نیروی اتمیConductive atomic force microscopy - میکروسکوپ نیروی اتمیNon-contact atomic force microscopy - میکروسکوپ نیروی اتمی بدون تماسScanning force microscopy - میکروسکوپ نیروی اسکنCarbon nanotube - نانولوله کربنیNanolithography - نانولیتوگرافیDip-pen nanolithography - نانولیتوگرافی Dip-penPMMA - پلی (متیل متاکریلات) Polyethyleneoxide - پلی اتیلن اکسیدpolymethyl methacrylate - پلی متیل متاکریلاتPolystyrene - پلیاستایرن PEO - پیوTwo-dimensional electron gas - گاز الکترون دو بعدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
This review article aims to provide an updated and comprehensive description on the development of atomic force microscopy (AFM) nanolithography for structuring and fabrication at the nanometer scale. The many AFM nanolithographic techniques are classified into two general groups of force-assisted and bias-assisted nanolithography on the basis of their mechanistic and operational principles. Force-assisted AFM nanolithography includes mechanical indentation and plowing, thermomechanical writing, manipulation and dip-pen nanolithography. Bias-assisted AFM nanolithography encompasses probe anodic oxidation, field evaporation, electrochemical deposition and modification, electrical cutting and nicking, electrostatic deformation and electrohydrodynamic nanofluidic motion, nanoexplosion and shock wave generation, and charge deposition and manipulation. The experimental procedures, pattern formation mechanisms, characteristics, and functionality of nanostructures and nanodevices fabricated by AFM nanolithography are reviewed. The capabilities of AFM nanolithography in patterning a large family of materials ranging from single atoms and molecules to large biological networks are presented. Emphasis is given to AFM nanolithographic techniques such as dip-pen nanolithography, probe anodic oxidation, etc. due to the rapid progress and wide applications of these techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: R: Reports - Volume 54, Issues 1â2, 1 November 2006, Pages 1-48
Journal: Materials Science and Engineering: R: Reports - Volume 54, Issues 1â2, 1 November 2006, Pages 1-48
نویسندگان
X.N. Xie, H.J. Chung, C.H. Sow, A.T.S. Wee,